随着半导体技术的开展，光刻技术传递图形的尺寸限制增加了2～3个数量级，从毫米级到亚微米级，，已从惯例光学技术开展到运行电子束、X射线、微离子束、激光等新技术；经常使用波长已从0埃扩展到0.1埃数量级范围，光刻技术成为一种精细的微细加工技术，......